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SiC Carrier

碳化矽承載盤|SiC 承載盤・SiC Susceptor/SiC carrier

Silicon Carbide (SiC) Carrier

碳化矽承載盤(SiC 承載盤)是晶圓解鍵合時托住晶圓的透氣載盤,用在下蠟機與晶圓分離設備。適合三五族與第三代半導體這類薄、脆的晶圓製程。

碳化矽承載盤實品

孔隙率 Porosity

25 ± 2%

尺寸 Dimension

Ø4~8"

密度 Density

3.2g/cm³

Function

為什麼需要承載盤

應用於晶圓分離、下蠟機(De-mounter;De-Bonder),三五族與第三代半導體晶圓代工。

隨著晶片越做越薄,加上 SiC 等硬度高、較脆、容易碎裂的化合物半導體普及,晶圓製程中必須把脆弱的晶圓放在其他臨時的承載晶圓/基板上加工,完成後再將兩者分離。

III-V 族晶圓經背面研磨減薄後,進行微影、金屬化、蝕刻等工藝;之後使用基座加熱到所需溫度,讓鍵合蠟溶解,再由上下真空吸盤建立真空吸力,以步進馬達驅動向前移動,使承載盤與晶圓分離。

Porosity 25 ± 2%

透氣與晶圓分離

碳化矽透氣承載盤,用於解鍵合(Debond)製程。

Applications

應用範圍

晶圓分離

解鍵合時托住晶圓的透氣載盤。

下蠟機

用於下蠟機承載晶圓。

Video / 3D Cutaway

45 秒,看承載盤的結構

進入畫面時載入 3D 剖視圖,可拖曳旋轉,查看承載盤的結構。

Video

碳化矽承載盤介紹影片

3D Cutaway

3D 剖視圖

Specification

產品規格

材質Material碳化矽(SiC)
尺寸DimensionØ4~8",厚度 0.7~1 mm(公差 ± 0.1 mm)
孔隙率Porosity25 ± 2%
密度Density3.2 g/cm³
平面度Flatness依需求客製/洽詢

孔隙率、密度等材料特性取自 Ø96×1 mm 承載盤規格表;其他尺寸請來信洽詢。

Applications

用在哪裡

應用領域

  • 三五族晶圓代工
  • 第三代半導體晶圓代工

Inquiry

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